采用多次曝光技术，提高了相减象的质量。提出用双光束干涉多次曝光的方法实现三维结构光子晶体。利用该成像系统分别进行了时间域多次曝光，空间域光强编码调制，自适应反馈控制三种动态范围扩展实验。为了制造出超大口径的脉冲压缩光栅，提出了一种采用多次曝光拼接技术制作大口径脉冲压缩光栅的方法。这为改进激光诱导扩散工艺，用多次曝光实现面均匀的杂质浓度分布奠定了理论基础。还有些用多次曝光的方式把不同的事物叠加起来了，从而产生一种新的东西。在董事会会议机密详细资料多次曝光于新闻报道后。采用该掩模，可进一步解决深射线光刻中的重复对准多次曝光问题。能多次曝光拍摄，当快门按钮按下时，胶卷不会卷动，可实现在同一底片上多次曝光。微电子技术的不断发展，对光刻设备精度的要求越来越高，特别是在一些特殊器件的制作领域，要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精度。 